《掩模版光学仿真与缺陷检测》专栏 · 第 6 讲副标题：复折射率、菲涅尔公式与薄膜——掩模"黑区"的光学真相前置知识：第 5 讲（平面电磁波与偏振）· 预计阅读 32 分钟上一讲结束时留了一个悬念：掩模的"黑区"根本不黑。一片 70 nm 厚的铬膜，在 266 nm 检测光下透射光强约为万分之三点六（OD ≈ 3.4）——不是零，而且透过去的这点光还携带着实打实的相位。掩模检测机照片上的一切反差：亮区多亮、暗区多暗、边缘什么形状、相位缺陷如何显形，全部由本讲的三个工具决定：复折射率、菲涅尔公式、薄膜特征矩阵。为什么这值得单独一讲？因为 die-to-database 仿真的输入端就是它们：掩模上每一点的透射复振幅t(x,y)=A(x,y)eiφ(x,y)t(x,y) = A(x,y)e^{i\varphi(x,y)}t(x 来自尧图内容编辑团队
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